名称：硅化钽
化学式： TaSi2
硅化钽熔点：2200℃
硅化钽密度：9.14g/cm
硅化钽的用途：
二硅化钽具有高熔点、低电阻率、抗腐蚀、抗高温氧化性以及与硅、碳等基本具有良好的兼容性等优异性能。主要应用于电热元件、高温结构部件、栅材料、集成电路的连接线路、高温抗氧化涂层、金属陶瓷、陶瓷基复合材料及航天航空、发动机等多领域。
应用领域：1） 制备氮化硅-硅化钽复合陶瓷材料。氮化硅-硅化钽复合陶瓷材料由以下原料（按重量计）组成：92-98份氮化硅粉末、12-15份硅化钽粉末、3-6份钕粉末和2-5份氧化铑粉末。
2） 对于硅化钽涂层，所描述的方法包括使用10至120微米的粒度范围，纯度大于95wt%的硅化钽粉末，使用真空等离子喷涂工艺或低压等离子喷涂工艺将硅化钽粉末喷涂在基底材料耐高温表面的预处理中，等离子喷涂工艺参数为：等离子气体Ar:30-50SLPM；等离子气体H2:8-18 SLPM；粉末载气Ar:1.55slpm；喷洒距离：100-350mm；喷洒功率：30-58kw；送粉量：8-30g·min-1；喷雾压力：100-800mbar。
硅化钽制备：
1.以金属钽和硅粉为原料，将金属钽和硅粉进行粉碎并混合均匀，再将其放入石墨炉内加热至1100～1500℃进行预反应，然后通入氢气，再升温至800℃进行反应，即得硅化钽。或者用氢化钙还原五氧化二钽得到氢化钽，再加热至1800℃得金属钽，然后加入硅粉合成得硅化钽。
2.将Si和Ta混合物先预热至350℃，然后升温至1480℃，加热反应。或令TaS2与SiHnX4-n在900℃下反应制得。
3.直接法　以金属钽和硅粉为原料制备硅化钽，反应式如下。
首先将金属钽和硅粉进行粉碎并混合均匀，再将其放入石墨炉内加热至
1100～1500℃进行预反应，然后通入氢气，再升温至1800.℃进行均化反应1h，即得硅化钽。
4.五氧化二钽还原法　首先用氢化钙还原五氧化二钽得到氢化钽，再加热至1800℃得金属钽，然后加入硅粉合成得硅化钽。